Muroi Susumu | Ishikawa Seisakusho, Ltd., 200 Fukudome, Matto, Ishikawa 924-0051, Japan

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Ishikawa Seisakusho, Ltd., 200 Fukudome, Matto, Ishikawa 924-0051, Japan | 論文

• Preparation of Low-Stress SiNx Films by Catalytic Chemical Vapor Deposition at Low Temperatures

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