尾形 篤 | 大阪電気通信大学工学部応用電子工学科,エレクトロニクス基礎研究所

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概要

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大阪電気通信大学工学部応用電子工学科,エレクトロニクス基礎研究所 | 論文

• Na/Si(111)の成長過程と2次イオン放出
• アブストラクト
• 走査トンネル顕微鏡による高温Si(111)上のCuの成長過程
• 30a-H-9 高温で成長させたCu/Si(111)のSTMによる観察

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