喜多 浩之 | 東京大学大学院光学系研究科マテリアル工学専攻:JRS-CREST

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概要

• 同名の論文著者
• 東京大学大学院光学系研究科マテリアル工学専攻:JRS-CRESTの論文著者

東京大学大学院光学系研究科マテリアル工学専攻:JRS-CREST | 論文

• GeO_2/Ge界面反応の理解に基づくGeO_2膜物性の劣化現象の制御(ゲート絶縁薄膜、容量膜、機能膜及びメモリ技術)

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