Lee Hi-Deok | Device Group, Advanced Technology Laboratory, LG Semicon Co., Ltd.

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概要

• 同名の論文著者
• Device Group, Advanced Technology Laboratory, LG Semicon Co., Ltd.の論文著者

論文 | ランダム

• 三次元IC間に挿入された配線体の高周波伝送特性
• Liフェライトの電気抵抗 : 磁性(酸化物)
• リチウム系フェライトの中性子線照射効果: 磁性 : 酸化物
• リチウム系フェライトの磁化特性の温度変化: 磁性 : 酸化物
• パネル討論シンポジウム「工学教育の国際化」

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