Ho Wen-hsien | Institute Of Engineering Science And Technology National Kaohsiung First University Of Science And Technology

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概要

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• Institute Of Engineering Science And Technology National Kaohsiung First University Of Science And Technologyの論文著者

論文 | ランダム

• 32nm世代用CMP装置 : CoO/CoCベスト
• 多層配線デバイス製造を支える最新のCMP平坦化技術(半導体デバイスの平坦化技術)
• 21714 酸化膜CMP用光学式終点検出モニター(薄膜・計測,OS.12 機械工学が支援する微細加工技術(半導体・MEMS・NEMS))
• 20103 高感度・ナノ膜厚検知・CMP用渦電流式終点検出モニター(機械工学が支援する半導体製造技術,OS1 機械工学が支援する微細加工技術(半導体・MEMS・NEMS))
• ADMETA 2005(15^ Advanced Metallization Conference 2005, Asian Session)(国際会議)

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