多川 則男 | 関西大,HRC

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概要

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関連著者

• 多川 則男

  関西大学システム理工学部

• 多川 則男

  関西大,HRC

• 多川 則男

  関西大学工学部

• 谷 弘詞

  関西大学機械工学科ハイテクリサーチ・センター

• 谷 弘詞

  関西大,HRC

• 多川 則男

  関西大学機械工学科ハイテクリサーチ・センター

• 多川 則男

  関西大学機械工学科 ハイテクリサーチ・センター

• 多川 則男

  関西大学 システム理工学部機械工学科

• 谷 弘詞

  関西大学機械工学科 ハイテクリサーチ・センター

• 谷 弘詞[他]

  関西大学システム理工学部

• 森 淳暢

  関西大

• 森 淳暢

  関西大学工学部

• 谷 弘詞

  関西大学システム理工学部

• 畠山 淳一

  関西大院

• 安藤 秀樹

  関西大院

• 前埜 聡

  関西大院

• 安藤 秀樹

  三洋電機

• 目坂 浩伸

  関西大院

• 谷池 芳寛

  関西大院

• 畠山 淳一

  関西大院:(現)キヤノン

• 山口 登夢

  関西大院

• 伊藤 利明

  関西大院

• 田中 大輔

  関西大院:(現)エプソン

• 垣谷 嶺

  関西大院

• 中野 郁雄

  シャープ

• 田中 史記

  船井電機(株)

• 村山 学

  船井電機(株)

• 前田 重雄

  船井電機(株)

• 前田 義人

  関西大院

• 矢野 久晃

  関西大院

• 村上 善照

  シャープ

• 元永 一志

  関西大院

• 森 健太

  関西大院

• 池上 雅子

  株式会社松村石油研究所

• 大西 由朗

  関西大院

• 田端 孝裕

  関西大院

• 三木 隆生

  関西大院

• 伊藤 大介

  関西大院

• 安達 友規

  関西大院

• 前田 重雄

  三菱電線工業株式会社

• 三木 隆生

  関西大学大学院理工学研究科

• 大林 拓海

  関西大院

• 北口 昌弘

  関西大院

• 森 和也

  関西大院

• 谷 弘詞

  関西大、HRC

• 清水 豪

  Moresco

• 小林 永芳

  Moresco

• 谷 弘詞

  関西大, HRC

• 上田 健司

  関西大院

• 福永 隆二

  関西大院

• 岡野 孝彦

  関西大院

• 大西 由朗

  関西大院:(現)シャープ

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著作論文

• 3820 スライダヒステリシス挙動におよぼす潤滑膜材料の影響 : フォースカーブ特性との比較(S56 磁気ヘッド浮上・位置決め制御技術,21世紀地球環境革命の機械工学:人・マイクロナノ・エネルギー・環境)
• 3413 スライダヒステリシス挙動におよぼす環境の影響(S70-2 情報機器コンピュータメカニクス(2),S70 情報機器コンピュータメカニクス)
• 2301 光アシスト磁気記録におけるヘッドディスクインタフェースに関する研究(要旨講演,情報機器コンピュータメカニクス)
• 5715 スライダヒステリシス挙動におよぼす潤滑膜材料の影響(S84-1 情報機器コンピュータメカニクス(1),S84 情報機器コンピュータメカニクス)
• S1604-1-2 浮上量制御型スライダのヒステリシス挙動に関する研究(磁気ヘッド浮上位置決め制御技術)
• 2119 多層光ディスク用アクティブ収差補正マイクロアクチュエータ機構に関する研究(要旨講演,一般セッション:マイクロナノメカトロニクス)
• 3414 環境制御型原子間力顕微鏡を用いたプローブと超薄膜液体潤滑膜との相互作用に関する研究(S70-2 情報機器コンピュータメカニクス(2),S70 情報機器コンピュータメカニクス)
• 1113 多層光ディスク用アクティブ収差補正マイクロアクチュエータ機構に関する研究(要旨講演,マイクロメカトロニクス)
• 1114 MEMS技術による光ディスク用ヘッドトラッキングマイクロアクチュエータ機構の開発(要旨講演,マイクロメカトロニクス)
• 2306 コンタクトスライダダイナミックスに及ぼす超薄膜液体潤滑膜の影響(要旨講演,情報機器コンピュータメカニクス)
• 2307 超薄膜液体潤滑膜の流動特性に及ぼす温度の影響(要旨講演,情報機器コンピュータメカニクス)
• 2110 ナノメータ浮上する浮動ヘッドスライダと超薄膜液体潤滑膜との相互作用(OS2-3 トライボロジーとその応用(3))
• 923 スライダタッチダウン・テイクオフヒステリシスに及ぼす超薄膜液体潤滑膜の影響(GS-16 磁気ヘッド(2))
• S1604-1-4 熱アシスト磁気記録におけるヘッドディスクインタフェースに関する研究 : 潤滑膜厚・ボンド率の影響(磁気ヘッド浮上位置決め制御技術)
• W13(1) テラビットレコーディングへの挑戦(W13 IT情報機器・デバイスの先端テクノロジー大集合,ワークショップ,21世紀地球環境革命の機械工学:人・マイクロナノ・エネルギー・環境)
• 926 MEMS技術による複合多層PZT薄膜の情報機器への応用に関する研究(GS-16 磁気ヘッド(2))
• 921 光アシスト磁気記録におけるヘッドディスクインタフェースに関する研究 : 潤滑膜材料の影響(GS-16 磁気ヘッド(1))
• 920 光アシスト磁気記録におけるヘッドディスクインタフェースに関する研究 : 潤滑膜厚・ボンド率の影響(GS-16 磁気ヘッド(1))
• 922 DTR記録におけるヘッドディスクインターフェースに関する研究(GS-16 磁気ヘッド(1))
• 924 環境制御型原子間力顕微鏡を用いたプローブと超薄膜液体潤滑膜との相互作用に関する研究(GS-16 磁気ヘッド(2))
• 925 超薄膜液体潤滑膜のナノ流動特性に関する研究(GS-16 磁気ヘッド(2))
• 919 化学修飾を行ったスライダ面を有する磁気ヘッドのヒステリシス挙動に関する研究(GS-16 磁気ヘッド(1))
• S1604-1-5 浮上制御型スライダのヒステリシス挙動に関する研究(ヘッド・ディスク・インターフェイス,社会変革を技術で廻す機械工学)
• S1604-1-4 磁気ディスク上におけるマルチデンテイト型潤滑剤の分子吸着形態に関する研究(ヘッド・ディスク・インターフェイス,社会変革を技術で廻す機械工学)
• MNM-1B-2 高周波パルス状レーザ加熱による単分子層膜厚液体潤滑膜の減耗特性(セッション 1B 情報・精密機器におけるマイクロ・ナノテクノロジー1)
• A-10 AFMを用いたプローブと超薄膜液体潤滑膜との相互作用に関する研究(口頭発表:ヘッド・ディスク・インターフェイス)
• MNM-1B-3 軽荷重接触磁気記録におけるHDI不安定性に関する研究(2)(セッション 1B 情報・精密機器におけるマイクロ・ナノテクノロジー1)
• A-16 光アシスト磁気記録におけるヘッドディスクインタフェースに関する研究 : 局所的上昇温度の同定(口頭発表:ヘッド・ディスク・インターフェイス)
• A-12 軽荷重接触磁気記録におけるHDI不安定性に関する研究(口頭発表:ヘッド・ディスク・インターフェイス)
• A-4 ヘッドディスクインターフェースにおけるペーパー潤滑に関する研究(口頭発表:ヘッド・ディスク・インターフェイス)

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