Yamashita H | Department Of Electronics And Information Engineering Faculty Of Engineering Hokkai-gakuen Untversit
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概要
- 同名の論文著者
- Department Of Electronics And Information Engineering Faculty Of Engineering Hokkai-gakuen Untversitの論文著者
論文 | ランダム
- 酸素添加成膜法による金属膜の平坦化とそれによるトンネル接合膜のTMR特性の改善
- A-2 燃料噴射を伴うVガッタ後流の流れ構造(燃焼I)
- Al-N絶縁層を有するトンネル接合膜のTMR特性に及ぼす窒化種の影響
- A-16 高速流中におかれたVガッタ後流の乱流特性
- 強磁性トンネル接合膜用バリア層材料