黒坂 渡 | 日本電産コパル(株)郡山技術開発センター

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概要

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• 同名の論文著者
• 日本電産コパル(株)郡山技術開発センターの論文著者

関連著者

• 三宅 正二郎

  日本工業大学 工学部システム工学科

• 黒坂 渡

  日本電産コパル(株)郡山技術開発センター

• 三宅 正二郎

  日本工業大学

• 三宅 正二郎

  日本工業大学 工学部

• 黒坂 渡

  日本工業大学

• 押元 幸一

  日本工業大学

• 金 鍾得

  アルバック・ファイ(株)

• 松本 安哲

  日本工業大学 大学院

• 金 鍾得

  日本工業大学

• 金 鐘得

  日本工業大学工学部

• 金沢 年郎

  日本工業大学 大学院

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著作論文

• 極薄ダイヤモンドライクカーボン(DLC)膜のナノメータスケールの力学特性評価
• 紫外線照射処理および熱処理した磁気ディスク潤滑膜の機械特性の評価
• 極薄ダイヤモンドライクカーボン(DLC)膜のマイクロトライボロジー特性
• ナノ周期積層固体潤滑膜
• ナノメータスケールの機械加工とそのAFMメモリーへの応用 ([日本工業大学]学内特別研究および国外研修に関する特集号) -- (特集 [日本工業大学]学内特別研究)
• 潤滑膜形成磁気ディスクのトライボロジー特性の表面温度依存性
• 紫外線照射および熱キュア処理した潤滑膜形成磁気ディスクの原子間力顕微鏡およびボールオンディスク試験による表面評価

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