福田 隆史 | 産業技術総合研究所電子光技術研究部門
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概要
関連著者
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福田 隆史
産業技術総合研 光技術研究部門
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福田 隆史
産業技術総合研究所電子光技術研究部門
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福田 隆史
産総研光技術
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独立行政法人産業技術総合研究所光技術研究部門
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関口 寛基
宇都宮大学大学院工学研究科:宇都宮大学オプティクス教育研究センター
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宇都宮大学大学院工学研究科 宇都宮大学オプティクス教育研究センター
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宇都宮大学大学院
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東工大・工
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竹添 秀男
東工大・工
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東工大・工
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筑波大学大学院 数理物質科学研究科 電子・物理工学専攻 計算光学グループ
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福田 隆史
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西門 産盛
物質研
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加藤 政雄
東理大基礎工
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茨田 大輔
(独)産業技術総合研究所光技術研究部門
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西門 産盛
Electronic and electrical Engineering, Trinity College, University of Dublin
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西門 産盛
Electronic And Electrical Engineering Trinity College University Of Dublin
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塚原 啓太
宇大院工:宇大core
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茨田 大輔
宇都宮大学オプティクス教育研究センター
著作論文
- 23aHL-7 アゾベンゼンコポリマーの光誘起共同再配向特性(23aHL 顕微・近接場分光,誘電体,領域5(光物性))
- 可視光領域で透明な高分子二次非線形光学材料の開発
- 可視光領域で透明な電気光学材料の開発
- 可視光領域で透明な電気光学材料の開発(思い通りに動く高分子・一般)
- 1PA16 アゾベンゼン高分子薄膜を用いたグレーティングと光配向によるネマティック液晶の配向競合
- PDb04 反応性アゾベンゼン液晶を用いた新しい光スイッチングデバイス
- リターダグラフィ--ユニークな位相情報記録技術
- ホログラフィックメモリーの素材 (特集 光メモリーとその周辺技術)
- ホログラムメモリ技術--デジタル情報を2次元画像として記録・再生する大容量光記録方式
- 光応答性高分子薄膜における多様な光誘起現象とその応用
- 記録メディア(各種記録方式の最新技術,ホログラム記録の現状と実用化への道)
- レーザーで創る機能性ナノパターン
- 電気光学高分子とホログラム材料における展開
- 光感応性高分子材料におけるナノパターニング (近接場光学技術特集)
- 光による表面レリーフ形成 (特集 光によるダイナミックドライブとコントロール技術)
- 光誘起表面レリーフ形成のメカニズム
- 偏光感受性記録媒体とリターダグラフィ(光記録技術・電子材料,一般)
- デュアルチャネル偏光ホログラフィによる二画像同時記録(コンシューマ機器および一般)
- 三次元ベクトル波メモリの開発