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Watanabe Masaharu | Ulsi Research Laboratories Research And Development Center Toshiba Corp.:(present Address)komatsu El
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Ulsi Research Laboratories Research And Development Center Toshiba Corp.:(present Address)komatsu El | 論文
Hole Generation without Annealing in High Dose Boron Implanted Silicon : Heavy Doping by B_ Icosahedron as a Double Acceptor
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