藤本 幸太 | 北見工業大学
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概要
関連著者
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平山 浩一
北見工業大学
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藤本 幸太
北見工業大学電気電子工学科
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藤本 幸太
北見工業大学
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辻 寧英
北見工業大学電気電子工学科
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佐藤 慎悟
北見工業大学
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木島 涼輔
北見工業大学
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辻 寧英
室蘭工業大学
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辻 寧英
北見工業大学
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佐藤 慎悟
北見工業大学工学部
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平山 浩一
北見工業大学電気電子工学科
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高橋 直也
東京工科大学大学院バイオ・情報メディア研究科
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高橋 直也
北見工業大学
著作論文
- 関数展開法とSVEAに基づくトポロジー最適化による光デバイスの設計に関する検討
- C-3-9 遺伝的アルゴリズムとトポロジー最適化による波長分離素子の設計(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- C-3-71 3次元光導波路デバイスの関数展開法に基づくトポロジー最適化(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- C-3-70 磁性フォトニック結晶デバイスの関数展開法に基づくトポロジー最適化(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- 光回路設計のためのトポロジー最適化における関数展開法の屈折率表現に関する検討
- 3次元光導波路デバイスのトポロジー最適設計における初期条件の検討
- 多媒質からなる光回路および非相反光回路に対するトポロジー最適設計の検討
- 3次元光導波路デバイスのトポロジー最適設計における初期条件の検討(マイクロ波フォトニクス技術,一般)
- 3次元光導波路デバイスのトポロジー最適設計における初期条件の検討(マイクロ波フォトニクス技術,一般)
- 3次元光導波路デバイスのトポロジー最適設計における初期条件の検討(マイクロ波フォトニクス技術,一般)
- 3次元光導波路デバイスのトポロジー最適設計における初期条件の検討(マイクロ波フォトニクス技術,一般)