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草ヶ谷 和幸 | 東京大学工学部システム量子工学科
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寺井 隆幸
東京大学大学院工学系研究科システム量子工学専攻
寺井 隆幸
東京大学工学部
草ヶ谷 和幸
東京大学大学院工学系研究科システム量子工学専攻
草ヶ谷 和幸
東京大学工学部システム量子工学科
著作論文
0.5MeV及び2.5MeVO^+イオン照射によるYBa_2Cu_3O_薄膜の超伝導特性と結晶性の変化
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