鈴木 涼 | 東大生研
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概要
関連著者
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鈴木 涼
東大生研
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ヴィルデ マーカス
東京大学生産技術研究所
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ビルデ マーカス
東京大学生産技術研究所
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Markus Wilde
Institute Of Industrial Science The University Of Tokyo
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Wilde Markus
東大生研
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福谷 克之
東大生研
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松本 益明
東大生研
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岡野 達雄
東大生研
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福谷 克之
東京大学生産技術研究所
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松本 益明
東京大学生産技術研究所
著作論文
- 19aXF-2 希土類金属水素化物薄膜の水素放出(表面・界面ダイナミクス(金属表面・理論),領域9(表面・界面,結晶成長))
- 25aYM-9 Y単結晶薄膜の水素吸収における結晶性欠陥の影響(格子欠陥・ナノ構造,領域10(誘電体, 格子欠陥, X線・粒子線, フォノン物性))
- 12pTJ-10 Si (111) 上 ^Fe 薄膜の放射光励起内部転換電子放射測定及び前方散乱 X 線測定(X 線・粒子線 : X 線・中性子線, 領域 10)
- 14pXF-7 Y 単結晶薄膜の水素吸収と脱離(表面界面ダイナミクス, 領域 9)
- W(110)上のY(0001)単結晶薄膜の水素化過程
- 27aYE-2 Y単結晶薄膜の水素化と脱水素化(表面界面ダイナミクス(分子))(領域9)
- 22aYE-8 Y 薄膜の水素化
- 21aPS-90 Y水素化物の金属-半導体転移機構の解明 : 赤外吸収分光装置の開発(領域9ポスターセッション,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 9aSN-2 W(110)表面への水素の吸着と零点振動(表面・界面ダイナミクス,領域9)