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大毛利 健治 | 早稲田大学:jst-crest
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早稲田大学:jst-crest | 論文
ドーピングによるシリサイドの仕事関数の変調 : シリサイドの物理に基づく理論(IEDM特集(先端CMOSデバイス・プロセス技術))
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