横井 昌幸 | 大阪府工技研
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概要
関連著者
著作論文
- 各種クロム浴の錯体の電荷分布と光沢クロムめっきの関係
- 幾可学的レベリングとめっきによる実際のレベリング
- 無電解ニッケルメッキ速度に及ぼす重金属イオンの効果〔英文〕
- 無電解ニッケル析出反応の抑制に関連したタリウムおよび鉛のUnderpotential Depositionについてのラジオトレ-サ-ならびに電気化学的研究〔英文〕
- パルス電解法による硫酸銅浴からの銅電析における中間体(Cu+)の役割について〔英文〕
- 銅(100)面上における銅電解物の形態および配向指数に及ぼすパルス電流の影響
- 硫酸銅めっき皮膜の硬さに及ぼすポリエチレングリコ-ル型界面活性剤の影響
- ファクシミリ-ペ-パ-法によるビ-カ-電解槽中の長方形電極への電流分布の測定(資料)
- ビ-カ-電解槽中での電流分布に及ぼす寸法並びに電極配置の影響(資料)
- 硫酸銅めっきにおけるCl-イオンと光沢剤成分の相互作成
- ハルセルにおける一次電流分布の均一化
- ファクシミリ-ペ-パ-法によるハルセルの一次電流分布の測定
- シュウ酸浴におけるクロムめっきの電流効率
- 半光沢ニッケルめっきにおけるクマリンの消耗と析出物の柔軟性
- 光沢ニッケルめっきにおけるブチンジオ-ルの消耗
- プリント基板スルホ-ルめっきにおけるピロリン酸銅めっきと硫酸銅めっきの比較
- 酸性硫酸銅めっき浴におけるポリエチレングリコ-ルの吸着挙動〔英文〕
- 酸性硫酸銅浴における銅電析および溶解反応機構の研究-4-塩素イオンにおける反応促進機構〔英文〕
- 酸性硫酸銅浴における銅電析および溶解反応機構の研究-3-塩素イオンの効果〔英文〕
- 酸性硫酸銅めっきの結晶電析過程に与える塩素イオンの影響〔英文〕
- 酸性硫酸銅浴における銅電析および溶解反応機構の研究--反応中間体Cu+の挙動〔英文〕
- 酸性硫酸銅浴における銅電析および溶解反応機構の研究--混合律速反応モデルによる検討〔英文〕