有泉 直子 | 山梨大 大学院

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概要

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関連著者

• 有泉 直子

  山梨県工業技術センター

• 有泉 直子

  山梨大 大学院

• 柴田 正美

  山梨大学工学部

• 古屋 長一

  山梨大

• 柴田 正実

  山梨大 工

• 柴田 正実

  山梨大学 大学院医学工学総合研究部

• 古屋 長一

  山梨大学工学部化学生物工学

• 柴田 正実

  山梨大学 工学部

• 古屋 長一

  山梨大学 工学部

• 古屋 長一

  山梨大学 大学院医学工学総合研究部

• 古屋 長一

  山梨大学工学部

• 児嶋 弘直

  U Toronto

• 児嶋 弘直

  山梨大学 工学部

• 児嶋 弘直

  東北大多元研

• 日原 政彦

  ウッデホルム(株)

• 日原 政彦

  山梨県工業技術センター

• 柴田 正実

  山梨大学工学部物質・生命工学科

• 上條 幹人

  山梨県工業技術センター

• 日原 政彦

  山梨大学 工学部

• 有泉 直子

  山梨大学工学部化学生物工学科

• 上条 幹人

  山梨県工技セ

• 有泉 直子

  山梨大学 大学院

• 柴田 正実

  山梨大学工学部

• 児嶋 弘直

  山梨大工

• 青木 秀明

  (財)やまなし産業支援機構

• 青木 秀明

  (財)山梨21世紀産業開発機構

• 有泉 直子

  山梨大学大学院

• 清水 良恵

  山梨大学 工学部

• 望月 陽介

  山梨県工業技術センター

• 宮川 和博

  山梨県工業技術センター

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著作論文

• 反応性イオンプレーティング法による金・窒化アルミニウム複合薄膜の形成
• 高周波イオンプレーティングによる金・アルミニウム合金薄膜の形成
• セラミックス上への高度精密メッキ技術に関する基礎研究
• サファイア研磨基板上の無電解Ni-Pめっき膜の密着性に及ぼす触媒析出形態の影響
• ICP-MS, CVおよびEQCM法を用いた極微量Pdアドアトム触媒の析出状態
• パラジウムad-atom電極を用いた無電解Ni-Pめっき析出における触媒活性の検討
• 無電解Ni-Pめっき初期析出過程に及ぼすパラジウム触媒の分散効果
• EQCM法による金電極上のパラジウムの析出状態の評価
• 低品位金合金用非シアン系電解研磨液の開発と研磨挙動の解明

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