目黒 和幸 | 岩手県工業技術センター
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概要
関連著者
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吉澤 正人
岩手大院工
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目黒 和幸
岩手県工業技術センター
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原田 善之
JSTサテライト岩手
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吉澤 正人
岩手大
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原田 義之
いわて産業振興センター
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Yoshizawa Masahito
Department Of Materials Science And Technology Iwate University
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池田 健
岩手大院工
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中西 良樹
岩手大院工
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藤根 陽介
ライトム
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後藤 俊介
ライトム
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吉澤 正人
岩手大学大学院工学研究科
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小林 宏一郎
岩手大学工学部
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小山 大介
岩手大学工学部
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小山 大介
岩手大学大学院工学研究科
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中嶋 俊明
岩手大学大学院工学研究科
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大場 辰則
岩手大院工
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佐々木 駿
岩手大院工
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藤根 陽介
岩手大学
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荒明 潤
岩手大院工
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小林 宏一郎
岩手大学 工学部
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原田 善之
JST
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池田 健
岩手大学
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荒明 潤
岩手大学
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大久保 暁穂
岩手大学
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渡辺 剛
岩手大学
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中嶋 俊明
岩手大学
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原田 善之
独立行政法人科学技術振興機構JSTイノベーションサテライト岩手
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藤根 陽介
岩手大学大学院工学研究科
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池田 健
岩手大学大学院工学研究科
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小林 宏一郎
岩手大学大学院工学研究科
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吉澤 正人
独立行政法人科学技術振興機構JSTイノベーションサテライト岩手
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入宇田 啓樹
岩手大院工
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小林 宏一郎
岩手大学
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増岡 史仁
岩手大院工
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吉澤 正人
岩手大学
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渡辺 剛
阪大院基礎工
著作論文
- 21aPS-127 As-grown MgB_2薄膜を用いた平面型接合の作製と物性評価(21aPS 領域8ポスターセッション(f電子系等および低温),領域8(強相関系:高温超伝導,強相関f電子系など))
- As-grown MgB_2 薄膜を用いたDC-SQUIDの作製
- 22pPSA-3 ZnO低温成長層による表面構造の変化(領域9ポスターセッション,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 20aPS-28 MBE法によるZnO薄膜における基板エッチングの効果(ポスターセッション,領域9,表面・界面,結晶成長)