渋谷 眞人 | 東京工芸大
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概要
関連著者
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渋谷 眞人
東京工芸大
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渋谷 眞人
東京工芸大学工学部/工学研究科
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渋谷 眞人
東京工芸大学工学部
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中楯 末三
東京工芸大
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中楯 末三
東京工芸大学工学部/工学研究科
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中楯 末三
東京工芸大学工学部光工学科
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長谷 隼佑
東京工芸大学工学部
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前原 和寿
東京工芸大学工学部
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喜入 朋宏
東京工芸大学工学部光情報メディア光学科
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前原 和寿
東京工芸大学工学部/工学研究科
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岡 幹生
東京工芸大学工学部
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小野 広起
(株)crcソリューションズ
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渋谷 眞人
東京工芸大学 工学部 メディア画像学科・工学部メディア画像学科
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谷川 剛基
東京工芸大学工学部/工学研究科
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藤川 千恵
東京工芸大学工学部/工学研究科
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渡辺 暢章
東京工芸大学工学部/工学研究科
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山本 雅之
東京工芸大学工学部/工学研究科
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公家 大裕
東京工芸大学工学研究科光工学専攻
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村山 右近
日本電産ネミコン株式会社
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青柳 公一
東京工芸大学工学部光情報メディア工学科
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塩沢 和則
東京工芸大学工学部
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水野 統太
電気通信大学
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水野 統太
電気通信大学大学院情報理工学研究科総合情報学専攻
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山口 城
南部化成(株)テクノセンター
著作論文
- 微細な波面収差の影響 : 半導体露光装置用投影レンズにおけるローカルフレア
- 液浸リソグラフィの光学結像の特徴
- 極紫外リソグラフィー開発と光学の総合力
- 光リソグラフィーにおける超解像技術とブレークスルーをめざして
- 光リソグラフィー
- 奇数次非球面の有効性
- 半導体露光装置用投影光学系の瞳結像 : 理論と設計
- 偏波保持光ファイバを用いた長距離干渉計測
- 90°位相シフトした2枚の干渉縞を用いる位相干渉計--撮像枚数の少ない位相シフト干渉計を目指して
- 偏光プリズムを用いた90℃位相シフト干渉計
- 2枚の90°位相シフトした干渉縞を用いる位相干渉計
- レンズ面の微小うねりの光学性能への影響
- リソグラフィーと技術立国日本 (特集 光と画像 展望と期待)
- 子供のための教育
- 自然な立体像を与えるための光学系の設計
- 物体移動による収差変化を抑制する光学設計
- 物体移動による収差変化を抑制する光学設計
- レンズ光学入門(第42回)波動光学の基礎(17)
- レンズ光学入門(第41回)波動光学の基礎(16)
- レンズ光学入門(第40回)波動光学の基礎(15)
- レンズ光学入門(第39回)波動光学の基礎(14)
- レンズ光学入門(第38回)波動光学の基礎(13)
- レンズ光学入門(第37回)波動光学の基礎(12)
- レンズ光学入門(第36回)波動光学の基礎(11)
- レンズ光学入門(第35回)波動光学の基礎(10)
- レンズ光学入門(第34回)波動光学の基礎(9)
- レンズ光学入門(第33回)波動光学の基礎(8)
- レンズ光学入門(第32回)波動光学の基礎(7)
- レンズ光学入門(第31回)波動光学の基礎(6)
- レンズ光学入門(第30回)波動光学の基礎(5)
- レンズ光学入門(第29回)波動光学の基礎(4)
- レンズ光学入門(第28回)波動光学の基礎(3)
- レンズ光学入門(第27回)波動光学の基礎(2)
- レンズ光学入門(第26回)波動光学の基礎(1)
- ドーム型ディスプレイ用投影光学系の設計