矢部 正也 | 富士電機中研

スポンサーリンク

概要

• 矢部 正也の詳細を見る
• 同名の論文著者
• 富士電機中研の論文著者

関連著者

• 矢部 正也

  富士電機中研

• 河野 勝

  富士電機中研

• 高浜 禎造

  富士電機中研

• 広野 克己

  富士電機中研

• 田辺 英三

  富士電機中研

著作論文

• 18p-A-9 n形Siの界面障壁とP^+n接合による負性抵抗
• p^接合構造の注入制御による発振の条件 : 半導体(不安定性)
• 4a-H-11 接合を有するシリコンの点接触発振
• 新素材開発のフロンティア--電子セラミックス
• プロセス計装における光応用センサ適用の考え方とその将来--材料,加工技術など基礎的研究の集積がなお必要 (計装における光ファイバ利用の展望)
• 3p-F-6 三方晶系セレンのエピタキシャル結晶成長

スポンサーリンク