小門 宏 | 東工大像情報
スポンサーリンク
概要
関連著者
-
小門 宏
東工大像情報
-
小門 宏
東京工業大学工学部像情報工学研究施設
-
小門 宏
東京工業大学工学部
-
本間 清史
東工大像情報
-
西川 治
東工大総理工
-
松井 とも子
東大工
-
井上 英一
東京工大工・像情報工研施設
-
内古閑 修一
東工大総理工
-
加藤 ひとし
東工大総理工
著作論文
- 光活性化型物理現象法に用いる現像剤
- 光活性化型物理現像法における銀核とパラジウム核の比較
- ポリマ-マトリックス中でのキノンの光還元反応--分子内水素供与体の有無による反応性の比較
- 光により活性化する物理現像液--現像条件の基礎的検討
- 化学堆積法による光導電性アモルファスシリコン薄膜の作製 (薄膜の形成と構造)
- 尿素-p-トルエンスルホン酸-硫酸系固体電解質におけるプロトン輸送路
- ピ-ル・アパ-ト法による金属画像の形成機構 (表面・界面の機能化(論文特集))
- 30a-QA-7 FTIRによるポリピロール電解重合膜の構造解析
- ピ-ル・アパ-ト法による金属画像の形成-5-ネガおよびポジ型の画像特性に対する金属の表面処理の影響
- 積層型感光体の電子写真特性に及ぼすキャリア発生層内の空間電荷の影響-2-
- 表示 : 科学と技術の交差点
- 感光性Al2O3微粒子による高感度多孔質画像形成 (感光性高分子材料の開発)
- 記録技術の現状と課題--高度化に備えて (記録技術の高度化論文特集)
- イメ-ジングの材料--発展とその背景 (情報化社会と化学とのかかわり--オプトエレクトロニクス)
- 電子受容性物質によるキャリア発生層の増感
- 積層型感光体の電子写真特性に及ぼすキャリア発生層内の空間電荷の影響
- 光記憶材料 (新素材とキャラクタリゼ-ション)
- フタロシアニン-PVK積層型感光体の電子写真特性
- 情報記録材料と化学 (電子産業における化学の役割)
- 電子写真感光体における最近の話題
- 東京工業大学像情報工学研究施設
- 将来の電子写真感材