Proffen Th. | ロスアラモス国立研究所
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概要
関連著者
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社本 真一
原研中性子利用セ
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社本 真一
産総研:jst Trip
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Proffen Th.
ロスアラモス国立研究所
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松永 利之
パナソニック(株)
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山田 昇
松下電器産業(株)
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梶谷 剛
東北大工
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松永 利之
松下テクノリサーチ
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梶谷 剛
東北大
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梶谷 剛
東北大院工学研究科
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山田 昇
独立行政法人科学技術振興機構crest
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山田 昇
松下電器産業(株)メディア制御システム開発センター
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山田 昇
松下電器産業
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江上 毅
テネシー大学
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小林 岳生
東北大工
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松永 利之
松下電器
著作論文
- 15aWF-5 新 2 重ハニカム格子化合物 M_2N_2S (M=Zr, Hf) の合成(高圧物性・構造解析, 領域 7)
- 26pYM-11 結晶PDF解析法によるGe_2Sb_2Te_5結晶相の局所構造(格子欠陥・ナノ構造,領域10(誘電体, 格子欠陥, X線・粒子線, フォノン物性))