坂東 務 | 石川工業高等専門学校
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概要
関連著者
著作論文
- 電子ビ-ム蒸着法による多結晶Si薄膜の作成
- RFスパッタリングによるSnO2薄膜の作成
- C-V特性測定システムとMOSデバイスへの適用
- 化学量論的なAs2Se3薄膜の作成条件の検討
- 反応スパッタリングによるシリコン酸化膜の作成
- 蒸着源と蒸着温度による二元系カルコゲナイド薄膜の組成変化
- MOSデバイスプロセスにおける酸化膜の特性測定 -半導体デバイス製作の学生実験への導入(?)-
- カルコゲナイドアモルファス半導体の光誘起整流現象
- 高真空中での蒸着粒子のエネルギー制御による成膜法