今村 修武 | 国際電信電話(株)研究所

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概要

• 同名の論文著者
• 国際電信電話(株)研究所の論文著者

関連著者

• 今村 修武

  国際電信電話(株)研究所

• 今村 修武

  東ソー株式会社新材料研究所

• 小林 俊彦

  Kdd研究所

• 三村 栄紀

  Kdd研究所

• 今村 修武

  KDD研究所

• 三村 栄紀

  国際電信電話(株)研究所

• 小林 俊彦

  国際電信電話(株)研究所

• 太田 忠一

  国際電信電話(株)研究所

• 太田 忠一

  国際電電研

• 田中 信介

  Kdd

• 早川 穆典

  ソニー株式会社 中央研究所

• 田中 富士雄

  KDD

• 佐藤 昇

  ソニー

• 田中 信介

  国際電信電話研究所

• 田中 富士雄

  国際電信電話研究所

• 佐藤 昇

  ソニー株式会社 技術研究所

• 田中 富士

  ソニー株式会社 技術研究所

• 早川 穆典

  ソニー株式会社情報処理研究所

• 田中 富士雄

  国際電信電話(株)研究所

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著作論文

• 6p-X-2 重希土類金属-鉄系非晶質合金膜の磁気的性質(I)
• 6p-X-1 重希土類金属-鉄系非晶質合金膜の磁気的性質(I)
• 第3元素を添加したTb-Fe系薄膜の光磁気記録媒体としての特性
• 9-4記録(9.材料およびデバイス)(テレビジョン年報)
• 4-2 光磁気記録技術(4.新しい磁気記録技術)(最近の磁気記録)
• 光磁気ディスク装置と記録・再生特性
• アモルファス垂直磁化膜の光磁気ディスクへの応用

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