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山道 新太郎 | Nec Ulsiデバイス開発研究所
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関連著者
山道 新太郎
Nec Ulsiデバイス開発研究所
ルセシェール ピエール
NEC ULSIデバイス開発研究所
著作論文
ECR-MOCVD法によるSrTiO_3薄膜とRIE加工によるRuO_2/TiN電極を用いたGbit級DRAM用キャパシタ作製技術
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