Kim Woochul | 産総研界面ナノ

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概要

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関連著者

• 相馬 貢

  産総研

• 川口 建二

  産総研

• Kim Woochul

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• 川口 建二

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• 越崎 直人

  産総研界面ナノ

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• 越崎 直人

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• 相馬 貢

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• Koshizaki Naoto

  Nanoarchitectonics Research Center (narc) National Institute Of Advanced Industrial Science And Tech

• Koshizaki Naoto

  Nanoarchitectonics Research Center Aist

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著作論文

• 29pXH-4 Fe_3O_4 を使った磁気抵抗素子作製と Fe の界面酸化状態
• 25pXJ-3 Fe_3O_4を用いたトンネル磁気抵抗接合とその界面状態(25pXJ 強磁性トンネル接合・磁壁,領域3(磁性,磁気共鳴分野))

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