池田 正二 | 室蘭工大
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概要
関連著者
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池田 正二
富士通株式会社ファイル研究部
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著作論文
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- 電析法によって製作したCo, Fe-Cu合金膜の構造と磁気抵抗
- MA法により製作したCo-Cu合金の磁気抵抗と低温磁性
- メカニカルアロイング法によって作製したFe-Cu合金の磁性と磁気抵抗効果
- メカニカルアロイング法によって作製したCo_xCu_合金の構造と磁気抵抗