大谷 徹也 | 東大新領域

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概要

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• 金 有洙

  理研

• 川合 真紀

  東大工:東大新領域:理研

• 川合 眞紀

  東大新領域:理研

• 金 有洙

  理化学研究所

• 金 有洙

  理化学研究所表面化学研究室

• 金 有洙

  独立行政法人理化学研究所基幹研究所

• 大谷 徹也

  東大新領域

• 清水 智子

  理研

• 川合 眞紀

  東大新領域

• 川合 真紀

  東京大学工学部応用化学科:東京大学新領域創成科学研究科

• 川合 真紀

  東大新領域

• 鄭 載勲

  理研:東大新領域

• 大谷 徹也

  東大新領域:理研

• 鄭 載勲

  東大新領域

• 金 有洗

  理研

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著作論文

• 23pWX-3 フッ化フラーレン単分子膜の金属界面での電子特性(23pWX 表面界面電子物性(有機分子),領域9(表面・界面,結晶成長))
• 22aHA-4 Au(111)表面におけるフッ化フラーレンC_F_単分子膜の構造及び電子状態(22aHA 表面界面電子物性,領域9(表面・界面,結晶成長))

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