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伊藤 正勝 | 富士通研ナノテク研センター
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富士通研ナノテク研センターの論文著者
関連著者
大淵 真理
富士通研ナノテク研センター
伊藤 正勝
富士通研ナノテク研センター
著作論文
23pWB-5 第一原理法によるグラフェン/チタン界面の電界下電子状態計算(グラファイト・グラフェン(作成・評価),領域7,分子性固体・有機導体)
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