浅海 愼五 | 東京応化工業(株)
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概要
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浅海 愼五
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著作論文
- 超LSI製造の高機能レジストおよび特殊現像液による微細加工の新展開
- ポジ型レジスト特性に及ぼす溶剤の影響
- 縮小投影露光におけるポジ型ホトレジスト中のホトセンシタイザ-量のパタ-ンプロファイルへの影響
- レジストの使い方 (レジスト(技術ノ-ト))
- フォトレジスト技術の最近の進歩
- 高解像度レジスト
- マイクロエレクトロニクスにおけるフォトリソグラフィー