朝日 直達 | (株)日立製作所日立研究所
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概要
関連著者
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朝日 直達
(株)日立製作所日立研究所
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朝日 直達
アイダエンジニアリング(株)
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山口 静
(株)日立製作所日立研究所
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浦尾 亮一
茨城大学工学部
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寺門 一佳
茨城大学大学院工学研究科
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日立製作所日立研究所
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玉村 建雄
(株)日立製作所日立研究所
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茨城大学・工
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根本 正
本社エンジニアリング推進センタ
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日立製作所(株) 日立研究所
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日立製作所
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茨城大学 大学院
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土井 昌之
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日立粉末冶金(株)松戸工場
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舟木 義行
茨城大学大学院理工学研究科
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竹内 博次
茨城大学大学院 理工学研究科
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朝日 直達
日立粉末冶金
著作論文
- 補助陰極を用いたイオン浸炭とイオン浸炭窒化の連続複合表面硬化処理
- プラズマCVD法による硬質皮膜の形成 (フォーラム「膜形成プロセスとその応用」)
- プラズマ利用による新しい表面改質とその応用 (フォーラム「表面改質技術の現状とその展開」)
- 高速プラズマ浸炭法による材料の表面硬化
- ホローカソード放電による連続プラズマ浸炭処理
- 354 Ni-W溶射層の性質
- 238 プラズマ溶射層の疲れ強さ
- 91 WC系粉末のプラズマ溶射
- 最近のイオン浸炭処理