真鍋 力 | 富士ゼロックス(株)中央研究所基礎研究室
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概要
関連著者
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真鍋 力
富士ゼロックス(株)中央研究所基礎研究室
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真鍋 力
北大・理
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小田 研
北大・理
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伊土 政幸
北大理
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伊土 政幸
北大・理
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渡辺 浩之
富士ゼロックス(株)中央研究所
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清水 正昭
富士ゼロックス(株)中央研究所
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真鍋 力
富士ゼロックス(株)中央研究所
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清水 正昭
富士ゼロックス(株)中央研究所 基礎研究室
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清水 正昭
富士ゼロックス(株)中央研究所基礎研究室
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重松 大志
富士ゼロックス株式会社 中央研究所 基礎研究室
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重松 大志
富士ゼロックス(株)中央研究所
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穂谷 克彦
北大・理
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窪田 亮
北大・理
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阿部 倫久
北大・理
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小田 研
北大理
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山田 宏一
富士ゼロックス株式会社 中央研究所 基礎研究室
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渡辺 美穂
富士ゼロックス株式会社 中央研究所 基礎研究室
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真鍋 力
北大理
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鎌田 賢明
北大・理
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鎌田 賢明
北大理
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中野 享
北海道大学理学研究科
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中野 亨
北海道大学理学研究科
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桃野 直樹
北大理
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伊土 正幸
北大理
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MANABE Chikara
Department of Physics,Faculty of Science,Hokkaido University
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ODA Migaku
Department of Physics,Faculty of Science,Hokkaido University
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IDO Masayuki
Department of Physics,Faculty of Science,Hokkaido University
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中野 享
北大・理
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桃野 直樹
北大・理
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伊土 正幸
北大・理
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中野 享
北大理
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中野 亨
北大・理
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中野 亨
北大理
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Oda Migaku
Department Of Physics Faculty Of Science Hokkaido University
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Ido Masayuki
Department Of Physics Faculty Of Science Hokkaido University
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下谷 啓
富士ゼロックス株式会社システム技術研究所
著作論文
- ナノチューブリングトランジスタ - 分子トランジスタをめざして -
- デュアルプローブSTMの開発とナノチューブリングトランジスタ
- 27aWB-11 デュアルプローブSTMの開発とナノチューブリングトランジスタ
- 22aYG-1 機能有機分子のSTM観察と電荷移動力測定
- 22pS-2 AFMによる分子分散ポリマーの電子状態の研究
- STM/STSからみたBi_2Sr_2CaCu_2O_の超伝導ギャップの対称性
- Bi_2Sr_2CaCu_2O_劈開面におけるSTM像のバイアス電圧依存性
- 5a-YE-12 Bi系銅酸化物高温超電導体の低温STM像とSTS
- Atomic Images and Tunneling Spectra on Bi_2Sr_2CaCu_2O_ Cleaved Surface by STM
- 28p-K-3 STM/STSから見たBi2212の超伝導ギャップに対するドーピング効果
- Bi2212のSTM像とSTSからみた超伝導状態
- TSFZ法によるBi2212単結晶作製とそのSTM/STS
- 31a-PS-1 Bi_2Sr_2CaCu_2O_の低温STM/STS
- 30p-PSB-54 La系の磁化率と超伝導に対するCuサイト置換効果II
- 28a-Q-8 La系の磁化率と超伝導に対するCuサイト置換効果
- 27a-PS-4 La系の低ホール濃度領域における磁化率の温度変化
- 25aYC-6 DNAトランジスタ(25aYC 生体高分子のフォールディングと物性(高分子物性を含む),領域12(高分子・液晶,化学物理,生物物理分野))