泉 謙一 | 九大院工
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概要
関連著者
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菊池 裕嗣
九州大学大学院工学研究院応用化学部門
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泉 謙一
九大院工
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菊池 裕嗣
九州大学大学院工学研究院
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菊池 裕嗣
九州大学先導物質化学研究所
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梶山 千里
九大
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牛 群
九州大学大学院工学研究院
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天谷 直之
日本油脂(株)
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長村 利彦
九州大学大学院工学研究院
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長村 利彦
九大院工
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海谷 法博
日本油脂(株)
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楊 槐
(財)福岡県産業・科学技術振興財団(福岡IST)
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RAJESH K.
(財)福岡県産業・科学技術振興財団(福岡IST)
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木村 礼子
(財)福岡県産業・科学技術振興財団(福岡IST)
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郡島 友紀
(財)福岡県産業・科学技術振興財団(福岡IST)
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蓮尾 東海
福岡県工業技術センター
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菊池 裕嗣
九大院工
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Rajesh Kumar
福岡IST
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牛 群
九大院工
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梶山 千里
九大工
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天谷 直之
日本油脂株式会社研究開発推進室
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Rajesh K.
Display Devices Group National Physical Laboratory
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Kumar Rajesh
福岡県産業・科学技術振興財団
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Kajiyama Tisato
Department Of Applied Chemistry Graduate School Of Engineering Kyushu University
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梶原 千里
九大院工
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Kuri T
Department Of Materials Physics And Chemistry Graduate School Of Engineering Kyushu University
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今村 康宏
日本油脂(株)
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郡島 友紀
福岡IST
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楊 槐
福岡IST
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木村 礼子
福岡IST
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梶山 千里
九州大学
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菊池 裕嗣
九大先導研
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泉 謙一
九州大学大学院工学研究院
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菊地 裕嗣
九州大学大学院工学研究院
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岩田 崇
九大院工
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RAJESH K.
福岡IST
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Kajiyama Tisato
Department Of Applied Chemistry Faculty Of Engineering Kyushu University
著作論文
- 1C06 ネマチック複合液晶におけるフレデリクス転移型メモリー性ストライプパターン(トピカルセッション-ソフトマターと液晶-, 2005年日本液晶学会討論会)
- 光重合法によって調製された(高分子/液晶)複合系の電気光学特性に及ぼすモノマーの重合様式の影響
- 3B03 (高分子/液晶)複合膜の電気光学特性の高急峻化とフレキシブル表示素子への応用(化学・材料)
- 3B02 In-situ光散乱測定に基づく(光重合性モノマー/液晶)複合系の相分離機構の解析(化学・材料)
- PB29 高急峻応答を示す(高分子/液晶)複合系の創製(化学・材料)