土井 正 | 東京都立産業技術研究所

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概要

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• 土井 正

  東京都立産業技術研究所

• 水元 和成

  東京都立産業技術研究所

• 茅島 正資

  東京都立産業技術研究所

• 田中 慎一

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• 上宮 成之

  岐阜大学・工学部

• 上宮 成之

  成蹊大学工学部

• 小島 紀徳

  成蹊大学工学部応用化学科

• 青沼 昌幸

  東京都立産業技術研究センター

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• 水元 和成

  東京都立工業技術センター

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著作論文

• クエン酸を用いた電気ニッケルめっきの皮膜特性
• クエン酸を用いた電気ニッケルめっき浴
• 電気ニッケルめっき浴のホウ酸の代替物質の検討
• 都立産技研『研究報告』No.8より 光沢クエン酸ニッケルめっき皮膜の耐食性
• 光沢クエン酸ニッケルめっき皮膜の耐食性
• 無電解めっき法による白金/多孔質アルミナ複合膜の調製
• ホウ酸の代わりにクエン酸を用いた電気ニッケルめっき浴
• 電気ニッケルめっき浴のホウ酸に代わるpH緩衝剤の検討

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