室谷 正彰 | 大阪電気通信大学工学部
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概要
関連著者
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室谷 正彰
大阪電気通信大学工学部
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矢口 和彦
富士シリシア化学株式会社マイクロナイズドシリカ部
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室谷 正彰
大阪電通大
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近藤 精一
School Of Chemistry Osaka Kyoiku University
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室谷 正彰
大阪電通大学
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和気 正芳
高エネルギー加速器研究機構
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内田 文生
富士化学
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内田 文生
富士化学(株)
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矢口 和彦
富士シリシア化学
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水野 康司
大阪教育大学化学教室
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藤原 洋文
大阪教育大学理科中央研究室
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壺井 育夫
大阪教育大学化学教室
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近藤 精一
大阪教育大学化学教室
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室谷 正彰
大阪電気通信大学工学部電子材料工学科
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矢口 和彦
大阪電気通信大学工学部
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矢口 和彦
富士デヴィソン化学株式会社
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清水 千恵美
富士化学(株)
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前田 憲二
富士化学(株)
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小林 本和
キヤノン(株)
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久保田 純
キヤノン(株)
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襟立 信二
キヤノン(株)
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大西 淳
大阪電通大
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壺井 育夫
大教大化学教室
著作論文
- シリカ表面水酸基と吸着分子間の相互作用
- IR-TG同時測定によるシリカおよびアルミナゲル表面水酸基の熱的振舞
- アルコキシド法による透明薄板状アルミナの作製とその表面水酸基の性質
- 浸漬熱の精密測定法
- ケイ酸の生成とその熟成に及ぼす四塩化炭素の添加効果
- シリカの構造形成に与えるほう酸の添加効果
- ジルコニアコーティング被膜の調製と赤外吸収スペクトル
- 多孔性ガラスを用いたジルコニア分散系の調製
- シリカコ-ティング膜の調製と赤外線吸収スペクトル
- 熱処理したジルコニアゲルの電子線回折と構造変化
- 透明薄板状ジルコニアゲルの作製とその熱処理による構造変化
- CSD法によるPZT薄膜作製のための安定溶液の調製
- 電池による超伝導磁石の励磁(2)
- 超電導電磁推進船へのUV光の応用 (紫外光)
- 酸化物超伝導体-アルコキシド誘導体および無機粉体よりの調製とキャラクタリゼ-ション