FUJII Takuro | Nanophotonics Center, NTT Corporation|NTT Device Technology Laboratories, NTT Corporation
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概要
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論文 | ランダム
- 乱流噴流の挙動に及ぼす隣接壁の影響 : 第1報,オフセット噴流の平均特性
- 粗さのある曲り円管の流動抵抗
- 正方形断面を有する90°ベンド内の乱流 : 第2報,乱れの測定
- 90°曲がったノズルからの噴流 : 第2報,ノズルの曲率の影響
- 粗い壁面をもつ曲がり正方形管の流動抵抗