中村 文美 | 愛院大歯・口治

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概要

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論文 | ランダム

• 0.25μmLSI多層配線技術 (特集 0.25μmCMOS/SIMOXゲ-トアレイ技術)
• Cu 配線技術 - 化学気相成長および反応性イオンエッチング技術 -
• 第12回国際化石鉱物ショーに出品して
• 「夢空間を翔るマテリアル」 -- 地上から宇宙空間まで様々な場所・環境で用いられる材料の世界 --
• 鉱業博物館2002年度前期企画展「それでも地球は動いている」--切手でつづるガリレオ・ガリレイのものがたり

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