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青木 健一郎 | 慶大日吉物理学教室
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Characterization of Si(100) Surface after High Density HBr/Cl_2/O_2 Plasma Etching
トライボロジー会議 2000 春 東京 開催報告
せん断応力場とトリボメタラジ- (トライボロジ-における分子物理)
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