今 喜裕 | (国研)産業技術総合研究所
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概要
論文 | ランダム
- Non-contact wafer fabrication process using gas cluster ion beams
- Cluster size dependence of etching by reactive gas cluster ion beams
- Cluster size dependence of SiO2 thin film formation by O2 gas cluster ion beams
- Size effects of gas cluster ions on beam transport, amorphous layer formation and sputtering
- クラスターイオンビーム・ナノ加工技術とその応用