高田 智司 | 東京工業大学 応用セラミックス研究所
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概要
東京工業大学 応用セラミックス研究所 | 論文
- 分子性材料薄膜成長中のRHEED強度振動(応用を視野においた有機半導体の結晶成長)
- 23pZF-8 ステップフロー成長によるMn系ペロブスカイト縦型超格子の作製とその電気特性
- 26pYT-12 La_Sr_xMnO_3薄膜の作製とPhotoelectron Yield Spectroscopyによる表面電子状態の観察
- 12a-X-9 Sr二重層を含むSrCuO_2薄膜の原子層形成と伝導特性
- トリチウムオ - トラジオグラフィによる粒界および粒界析出相への水素集積の透過観察