石田 次雄 | 新日本製鉄株式会社エレクトロニクス研究所

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概要

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• 新日本製鉄株式会社エレクトロニクス研究所の論文著者

新日本製鉄株式会社エレクトロニクス研究所 | 論文

• Co-sputter法によるB添加a-SiC:H薄膜の作製と光学的特性 (第30回真空に関する連合講演会プロシ-ディングス)

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