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MATSUMURA Shigehisa | Nikken Sekkei Research Institute
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ゾル-ゲル法により作製したα-Fe_2O_3薄膜の三次非線形光学感受率
PbO-SiO_2及びPbO-B_2O_3ガラスの第3高調波発生
ゾル-ゲル法によるNiFe2-xO4+δ薄膜の合成及びその光電気化学的性質
ゾル-ゲル法による高配向性Li_2B_4O_7膜の作製
ゾル-ゲル法によるNiFe2O4薄膜の合成及びその光電気化学的性質
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