Iizuka Hisamitsu | <sup>1</sup>Department of Physics, Gakushuin University, Mejiro, Toshima-ku, Tokyo 171-8588
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概要
- 同名の論文著者
- <sup>1</sup>Department of Physics, Gakushuin University, Mejiro, Toshima-ku, Tokyo 171-8588の論文著者
論文 | ランダム
- アダマンタンによるダイヤモンド状炭素薄膜の堆積
- ストライプ状電極を持つa-Si:H PSD
- 高周波イオンプレーティング装置の製作
- 差動型Si-ISFETの特性
- ガリウムシリケート触媒による廃プラの石油化学原料化技術開発 (特集 「触媒」の最近動向--高機能化・環境保全ニーズに応える)