Furukawa Akihiko | Advanced Technology R&D Center, Mitsubishi Electric Corporation, Itami, Hyogo 664, Japan

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Advanced Technology R&D Center, Mitsubishi Electric Corporation, Itami, Hyogo 664, Japan | 論文

• Characterization of Crystallinity in Low-Temperature-Grown GaAs Layers by Raman Scattering and Time-Resolved Photoreflectance Measurements

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