Otani Y. | ASI RIKEN:ISSP Univ of Tokyo
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概要
論文 | ランダム
- Antimony Behavior in Laser Annealing Process for Ultra Shallow Junction Formation
- Plasma Properties of a Negative Ion Plasma Reactive Ion Etching System
- (4) 新聞メディアと性情報(若者たちの性が危ない〜避妊と性感染症予防を考える, 第46回 日本母性衛生学会総会 学術集会抄録集)
- A-7 漏れ流れを伴う高圧タービンエンドウォール部のフィルム冷却に関する研究(伝熱・冷却,一般講演)
- A-5 冷却孔形状がタービン翼空力伝熱特性に与える影響に関する研究(伝熱,一般講演)