Honma Noriaki | Central Research Laboratory Hitachi, Ltd., Kokubunji, Tokyo 185

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概要

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Central Research Laboratory Hitachi, Ltd., Kokubunji, Tokyo 185 | 論文

• Contribution of Thermal SiO2 Layers on Si Wafer Back Surfaces to Photoconductive Decay Time Measured with Microwave Reflection from Front Surfaces

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