祐谷 重徳 | 三菱電線工業 (株) 中央研究所

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論文 | ランダム

• 酸化チタン膜の光触媒反応に及ぼす酸素イオン注入の影響
• フッ素樹脂の超撥水性に及ぼすArイオン注入条件の影響 (第15回イオン注入表層処理シンポジウム)
• 窒素イオン注入により改質した磁気ディスク用カーボン保護膜のトライボロジー特性
• クリーン環境下における薄膜媒体の大気腐食とその評価法
• 薄膜磁気ディスク表面とヘッド間に発生する結露現象のモデル提案とその実験的検証

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