谷 弘詞 | (株)日立製作所 ストレージ事業部

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著作論文

• 窒素イオン注入により改質した磁気ディスク用カーボン保護膜のトライボロジー特性
• 磁気ディスク潤滑膜の自己修復性と自己保持性
• AFMを用いた磁気ディスク潤滑剤の評価
• 407 軟質層のある磁気ディスク媒体の3次元弾塑性解析(オーガナイズドセッション : 計算力学と構造最適化)
• 表面モデル形状パターニングによる薄膜磁気ディスクのトライボロジー特性解析

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