梶谷 勇 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所

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概要

• 同名の論文著者
• 国立研究開発法人産業技術総合研究所の論文著者

論文 | ランダム

• CVD法によるTaN_x-TiN薄膜の合成
• 単一液滴の乾燥過程と噴霧熱分解法による酸化物微粒子の生成機構の解析
• 還元雰囲気中熱処理によるAlN焼結体の粒界面の移動現象
• ポリシラザン溶液の噴霧熱分解法によるSi_3N_4球状微粒子の合成(セラミック・レター)(導電性セラミックス)
• La_2CuO_4焼結体の電気的性質の組成依存性(酸化物系導電セラミックス)(導電性セラミックス)

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