Shuto N. | Disaster Control Research Center, Tohoku Univ.
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概要
論文 | ランダム
- Application of HfSiON to Deep-Trench Capacitors of Sub-45-nm-Node Embedded Dynamic Random-Access Memory (Special Issue: Solid State Devices & Materials)
- 原子層成長(ALD)装置 (全冊特集 新プロセスに対応する半導体製造・試験装置と材料) -- (半導体製造装置・周辺機器)
- A Comparison of Al2O3/HfO2 and Al2O3/ZrO2 Bilayers Deposited by the Atomic Layer Deposition Method for Potential Gate Dielectric Applications
- Growth of HfSiO_x films by Vapor-Liquid Hybrid Deposition Utilizing Si(OC_2H_5)_4/Hf(^tOC_4H_9)_4 Multilayer Adsorption
- 気管内吸引圧の安全性に関する研究 : 第一報