橋本 光一 | 日本真空技術KK

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概要

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• 日本真空技術KKの論文著者

日本真空技術KK | 論文

• 4a-B-3 AESによる薄膜成長機構の研究
• Si(111)の7×7回折像の特徴 : X線・粒子線
• LEED及びLEESによる固体表面の研究 : 表面物理, 薄膜
• 6p-B-18 Auger分光法によるSi_M_x(M=Au,Cu)の金属-非金属転移の観察
• 核融合装置の第一壁材料のスパッタリング実験

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